荧光标记肽

全保护肽

所有有反应活性的保护基团中,除了需要进行化学反应的基团,其余的都要保护起来,以防止在后续化学反应中发生副反应,降低收率或导致合成失败。常见保护基团汇总如下:
全保护肽合成展示 例如合成Asp-Lys-Gly-Tyr-连接臂-功能分子这里连接臂选用乙二胺。

步骤一:合成C端羧基裸露的全保护肽Boc-Asp(OtBu)-Lys(Boc)-Gly-Tyr(tBu)-OH,通过Fmoc固相合成方法,可以很简单的得到,这里仅展示一下最终结构。


步骤二:将乙二胺连接到裸露的C端羧基上(上图中红色结构),乙二胺结构如下


反应时需控制原料比例、反应浓度和反应时间,或将其中一个氨基临时保护起来。
最终得到产物Boc-Asp(OtBu)-Lys(Boc)-Gly-Tyr(tBu)-乙二胺,结构如下

步骤三:将连接臂的另一端和功能小分子结合,例如功能小分子上含有一个羧基,其它基团不参与反应或被保护。


步骤四:去掉所有的保护基团,前期选择哪种保护基团,取决于实验的需要,一般是根据实验路线,去掉保护基团之后,就得到了我们想要的多肽合成衍生物了。示例结构如下:


局部保护肽

局部保护肽相对于全保护肽而言,其多肽侧链保护基团不需要全部保护,仅保护个别的侧链活性基团,其优点是提高了多肽的溶解性,减少了空间位阻。在多肽合成衍生物的过程中,局部保护肽和全保护肽非常类似,小编就不再做进一步介绍了。

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